我国企业如何更好的应对集成电路布图设计侵权现象

假设一项权利要求含有4个元素A、B、C及D，而本企业的某个新技术或产品包含6个要素一、二、三、四、五及六。如果新技术或产品6个要素中有4个，例如要素一、二、三和四，分别与权利要求的4个元素A、B、C和D相同或等效，该技术或产品即对该权利要求构成侵权，而新技术或产品中另外两个要素五和六，与该技术或产品是否对该权利要求构成侵权没有直接关系。反之，如果新技术或产品6个要素中只有3个，例如要素一、二和三，分别与权利要求中的3个元素，例如元素A、B和C相同或等效，而新技术或产品中没有与权利要求中第四个元素D相同或等效的，那么该技术或产品对该权利要求不构成侵权。

沈 磊

首先，在技术规划时，对所开发产品的关键技术进行专利查询。从我的体会来看，专利的查新要形成长效机制，即要由专门的部门和专门的人员去做这件事情，不能作为临时的事情由项目开发组去做，否则，往往是虎头蛇尾，达不到好的效果。然后，对所查询的结果进行比对、归类，并与技术部门一起，去评估所制定的方案是否会侵犯他人的专利。如果关键技术相似，要评估相似的程度。之后，评估是否需要或可以修改方案，从而规避过去。如果不能规避，而这一关键技术对公司产品的发展很重要，那么就需要与专利所有者进行洽谈，开展合作。这种合作可能不单是在知识产权授权方面的，例如，可以在其他方面同时开展合作，这样做往往最后也可以获得非常优惠的授权，最终达到双赢。如果存在授权问题或即使得到相应授权但产品成本不好，就要仔细考察产品开发和销售策略了。最后要说明一点，如果其他企业已经在国内注册了相应的专利，企业就要注意，哪怕在国内销售的事情都不能做,以免恶意侵权的现象发生。

可以看出，在这一过程中，结果是多种多样的，但过程是必须要经历的，这是企业合理合法、有效应用知识产权的必经之途，也是企业由小做大、由弱做强的根本所在。

姚海平

首先，将自己的技术申请为专利(特别是美国专利)，这是一个有效的方法。美国好的专利律师均有双学位，可以帮助进行检索。

其次，仅依靠一条或数条孤立的专利往往是不能有效地进行自我保护的，需要设计一个比较完整的专利体系，对自己的创新技术进行保护。

第三，即使是创新技术，常常也是基于现有技术的，甚至是基于现有的被专利保护的技术，但只要确实有创新点和优势，理论上总是可以将这一创新点申请为专利，在某些具体前提条件下，即使几方专利中包含了其他专利技术，也是合法的。

王海波

集成电路行业有个好处，它的侵权发现起来非常困难。

法院判断侵权很麻烦，所以我们看到Intel和AMD、Intel和VIA之间的官司最后都是不了了之，达成庭外和解，这都有它的深刻原因的———法院很难判断谁侵权，同时诉讼的成本很高，双方的目的并非一定是赢官司，而是要达到限制竞争对手的目的。

权利人发现我们侵权很困难，但我们自己发现自身是否侵权很容易。那么怎样来判断呢？一方面，从专利角度上说，要检索全球范围的专利，阅读它，看要做或正在做的技术是否侵权。另一方面，从布图设计角度看，一是保证不去偷人家的布图；二是反向工程设计在现有法律体系上是不算侵权的，因此，利用反向设计时，要做到与原有设计有所区别，具体区别程度要依照各国法律的不同而定。而在开发过程中怎样规避诉讼呢？我想能不用的就不用，该用的就用，然后用一些方法和技巧制造让对手无法顺利发起纠纷的机会。

一些集成电路设计企业已经进入小批量试产阶段，此时他们需要什么样的知识产权战略和策略？如果发现侵权应如何应对？

沈 磊

企业进入小批量生产后才发现侵犯了别人的知识产权，这有两种可能，一是该企业在产品规划时没有把知识产权作为要素去考虑；二是在研发过程中，没有及时申请专利，使申请落后于其他企业。无论是哪种情况，到这一阶段，产品已存在侵权问题，作为一个规范的企业来说，不能坐视无睹，那么该怎么办呢？
 

如果是第一种情况，首先要重新评估，看企业的产品技术能不能注册专利、版图等。如果与他人的完全一样，就要与所有者进行接洽，此时，绝不能坐视不管，因为这样也会牵连到进行小批量试产的晶圆代工企业。

如果是第二种情况，要抓紧做好相应方案的修正和专利申请及版图保护工作，这不仅对技术能起到很好的保护，而且，对未来产品的推广也非常有意义，因为它也可以作为一种市场推广手段，抬高同类产品进入市场的门槛。这个阶段的工作重点有三：一是专利的申报和维护。如果申报了，就要对专利进行及时的维护和更新，看它是否在有效期内，为此，企业要设立专门的部门和职位去做这件事。第二，根据国家《集成电路布图设计保护条例实施细则》及时进行集成电路版图保护。第三，当我们购买了设计所需的IP核后，就要合理规范地按已谈定的IP商业模式运作。

谢福源

对于已经进入小批量试生产的设计企业而言，为完善知识产权的保护工作，宜采取下列举措：首先，必须在生产前确认未侵犯他人知识产权；其次，对于符合专利权、集成电路布图设计权、著作权及商业秘密等保护的知识产权，应依照法律提出申请或采取法定保护措施；第三，对于市场上竞争者，应建立竞争性情报(competitive intelli-gence)搜集及分析机制，以了解自身知识产权是否遭到竞争者侵害的情况；第四，进行提升设计技术所需知识产权布局的分析与策略规划，以构建具有前瞻性设计技术的知识产权布局，以强化设计的竞争力。

姚海平

产品已经进入小批量试产阶段，如果产品本身存在知识产权漏洞，此时在技术上再加以弥补已经不可能，也不必要了。更有意义的做法可能是：及早展开市场推广，利用本土优势获取客户，达到保持利润率并获取小部分市场份额的目标。同时，企业应积极开发下一代更有创新性的产品，再争取未来更大的市场份额。当然，如果芯片产品及应用该芯片整机的目标市场都仅仅在国内，注册个芯片布图著作权就可以获得基本的自我保护了。

王海波

如果发现发生了侵权，首先要做补充专利检索分析，确认哪些技术侵犯了哪些人在哪些国家的专利权。专利是有地域性的，例如，有些公司只在美国和欧洲申请专利，在中国就不申请，我们就考虑是否不把产品卖到他们申请了专利的地区。其次，如果有侵权，判断被侵权的公司是不是会提起诉讼。不是一有侵权，就会有诉讼的，如果你的公司实际的市场竞争没有威胁到那些企业，他们是不会轻易提起诉讼的。第三，如果构成了市场威胁怎么办？一方面，躲开他，不做他们申请了专利的市场，另一方面，就是采取申请专利无效、申请从属专利达到专利交叉等等其他很多办法。

在这里要说明一点，法律是人制定的，在企业中做知识产权工作很重要的部分就是研究法律，要善于运用法律来为你服务，而不是受法律的束缚。

周孜冶

发展新技术和产品过程中，除应确认知识产权壁垒和自由操作领域，以避免侵犯他人知识产权外，企业还应积极地保护本企业的知识产权。这包括迅速占领自由操作领域和战略性地申请并获得符合国际标准、经得起法庭考验的高质量专利。

判断一项新技术是否可以获得专利应取决于该技术与现有技术相比是否具有新颖性和创造性，这和判断新技术是否对一项专利权利要求构成侵权是两个不同的分析过程。在上述举例中，如果新技术中6个要素中有4个与权利要求的4个元素相同或等效，该技术即对该权利要求构成侵权。但这并不意味该技术不可获得专利。如果该技术其余两个要素中至少有一个要素与现有技术相比具有新颖性和创造性，该技术就可获得专利。反之，一项不侵权的技术并不一定可获得专利。在上述举例中，如果专利权利要求的4个元素中只有3个元素在新技术中有相同或等效要素，该技术对该权利要求不构成侵权。如果该技术的6个要素与所有现有技术，不仅仅是该项专利权利要求相比，缺乏新颖性和创造性，该技术将不可获得专利。

需要注意的是，一个企业获得某项技术的专利并不意味着该企业可以运用该技术生产产品或销售产品。专利只赋予专利拥有者禁止他人未经许可使用其专利的权力；专利并不赋予专利拥有者使用自己专利的权力，上述例子即可说明此点。

集成电路技术已经发展到很高的阶段，相应的知识产权是否可以Design around？

朱文革

集成电路企业里最好有既懂技术，又懂知识产权法律方面的人才。或许国内有这样的咨询机构也不错。遗憾的是，国内目前这两方面都奇缺。

沈 磊

在集成电路产品开发中有时会碰到这样的情况，有些知识产权在某个产品的实现过程中，综合考虑技术实现难度和设计开发成本等因素后，一时很难绕过去。这是由于一些专利把一个技术整个的方面都申请了，甚至把最基本的部分也申请了，这样，在一定的成本范围和技术实现手段下，很难完全规避。以IC卡产品为例，飞利浦和英飞凌公司注册了相当多的专利，甚至把一些接触式IC卡的模块条带外形都进行了专利注册。如果一定要完全规避过去，不但要花费大量的成本，使电路更加复杂，而且设计出来的电路还不一定有效。

遇到这种情况，我们就要合理应用知识产权，或看能不能部分规避，并及早申请专利，或变动产品市场策略，当然这也要与国家的宏观政策结合起来。

姚海平

完全可以实现规避设计。其实国外很多专利书写也是不完善的，如果明确知道自己的产品可能侵犯某些知识产权，可以通过专家的研究，有可能找出这些知识产权申请的漏洞并加以利用。最过硬的design around是以加入自己的创新为基础的。

周孜冶

某些知识产权壁垒可以通过规避设计避免侵权。进行规避设计的宗旨是设法通过取消、取代或改变专利权利要求中的某一关键元素，以避免新技术或产品对专利权利要求构成侵权。这和在专利技术基础上改进发展新技术有所不同。改进后的技术往往可以获得新专利，但不一定能避免对原专利构成侵权。

一些技术领域的核心技术专利往往是很难规避的。例如，美国高通公司在码分多址(CDMA)技术领域的一些核心专利是难以规避的。若无法规避，企业应在获取专利拥有者的许可后合法地运用专利技术。在获取专利技术许可过程中，若企业拥有技术领域中一些关键专利，则可通过交叉许可降低许可成本。另外，很多国家和地区的政府都对一些核心专利技术有强制许可要求，而核心专利技术的强制许可应是合理并非歧视性的。

吴锦伟

Design around，即“规避设计”，是一种常见的知识产权策略。知识产权本身并不能规避，但是工程师可以采用不同于受知识产权保护的新的设计，从而避开他人某项具体知识产权的保护范围。规避设计并不是设计中的灵丹妙药，采用规避设计本身就意味着对手在该项技术领域先有知识产权，而我方已经处于不利态势。但是，规避设计的确是企业知识产权策略中避免侵权发生的重要措施，同时也可能是代价最小的一条竞争捷径，因此对于企业，特别是后起的企业而言，规避设计往往是其后发制人的一个重要手段，值得重视。此外，了解规避设计的策略和特点对知识产权人也有重要的启发意义。

众所周知，知识产权种类繁多，保护的侧重点和力度各有不同。专利是所有知识产权类型中较难进行规避设计的一类，因为专利权保护的是一种发明方案而不仅限于其具体实施或表现形式，从而具有一定的抽象性，保护的范围也就比较广。

从近年半导体行业的专利诉讼中可以看出，专利侵权有时并不是对被侵权产品或技术的简单复制，而是侵权者尽管已经对发明或设计做了一定程度的变形，却仍落入权利人专利权的保护范围内。所以，可以说，专利不仅可以阻止简单的仿冒，还可以打击有能力对其技术做一定程度变更的竞争者，甚至是仅仅因为没有仔细研究和关注该专利，而误使自己的发明或设计落入该专利保护范围的自主研发者。由此可见，专利的规避设计值得我们充分关注，也是规避设计中的重中之重。

专利规避设计的第一步是搞清所要规避的专利保护范围的大小。在核实专利有效的前提下可以进一步分析其权利要求，找出其保护范围最宽的权项进行分析，结合说明书和相关审查过程中的往来文件，确认该权利要求字面的真实含义以及其等同物的范围。

确定了专利保护范围之后，就可以进入规避设计的设计过程了，在此过程中，规避设计的方法大致有以下几种：

其一是仅借鉴专利文件中技术问题的规避设计，通过专利文件了解新产品的性能指标或技术方案解决的技术问题。其二是借鉴专利文件中背景技术的规避设计，在此基础上创造出不侵犯该专利权的设计方案。其三，借鉴专利文件中发明内容和具体实施方案的规避设计。在此过程中，一方面寻找权利要求的概括疏漏，找出可以实现发明目的，却未在权利要求中加以概括保护的实施例或相应变形；另一方面可以通过应用发明内容中提到的技术原理、理论基础或发明思路，创造出不同于权利要求保护的技术方案。其四，借鉴专利审查相关文件的规避设计。利权人不得在诉讼中，对其答复审查意见过程中所做的限制性解释和放弃的部分反悔，而这些很有可能就是可以实现发明目的，但又排除在保护范围之外的技术方案。其五，借鉴专利权利要求的规避设计。这种规避设计是采用与专利相近的技术方案，而缺省至少一个技术特征，或有至少一个必要技术特征与权利要求不同。这是最常见的规避设计，也是最与专利保护范围接近的规避设计。

此外，从成本角度看，虽然以上提到的几种规避设计不同程度地借鉴了所要规避的专利技术，节约了成本和时间，但先研究者的专利技术往往是专利权人经过研究比较得出的最优方案，而规避设计则通常是牺牲设计成本或性能指标的产物，从这个角度而言规避设计是不经济的