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集成电路布图设计

集成电路律师为您解析目前常发生的布图设计侵权类型

作者:admin 点击量:57 发布时间:2016-07-21 14:25

集成电路律师

广东长昊律所集成电路律师认为,随着高新技术的发展,集成电路布图设计侵权的方式、手段将会更加多样化。

在实践中,主要有以下几种类型:

①未经布图设计权利人许可,复制受保护的布图设计的全部。侵权人往往采用翻拍、拷贝等多种方法复制权利人的布图设计;
②未经布图设计权利人许可,复制受保护的布图设计中具有独创性的部分。受保护的布图设计必须具有创造性,但这是就布图设计的整体而言,并不意味着布图设计的每一个部分都具有独创性。事实上,绝人多数的布图设计,只有其中的某些部分具有独创性。法律只保护布图设计中具有独创性的部分。未经布图设计权利人许可,复制受保护的布图设计中不具有独创性的部分,并不构成侵权;
③非法进口、销售、提供受保护的布图设计。布图设计作为智力成果,凝聚着权利人的人量劳动和投入,未经布图设计权利人许可,为商业目的进口、销售、提供受保护的布图设计,必将严重侵犯权利人的民事权利;
④非法进口、销售、提供含有受保护的布图设计的集成电路。集成电路是融布图设计和工艺技术于一体的综合性法制园地技术成果,布图设计内涵在集成电路之中。为了商业目的,未经权利人许可,直接将他人的布图设计用于制作集成电路,并且进行销售或者提供该集成电路,是一种较为隐蔽的侵权行为;
⑤非法进口、销售或提供含有受保护的布图设计的产品。此类侵权的隐蔽性更强,它一般表现为,侵权人出于商业目的,不经布图设计权利人许可,直接将含有受保护的布图设计的集成电路用于某些产品之中,并将这些产品投入商业经营。所涉集成电路可能是侵权人自己制造的,也可能是侵权人从别处非法购入的。

布图设计属于智力成果要完成布图设计,设计人员必须完成艰辛的创造性劳动。本文通过采用掩膜板来制造集成电路这一工艺过程;来述布图设计的智力成果这一特征。通常,集成电路的制造大致分为两个步骤

(I)设计布图(2)将布图设计复制于掩膜板(3)通过半导体工艺,将掩膜板上的布图设计实现在半导体基片上。

在实际的集成电路产品开发当巾,在步骤(1)当中,布罔设计的研发费用要占整个集成电路产品开发的百分之五十以上。设计人员要根据集成电路预先实现的功能来设计出逻辑图和电路设计图,再把电路图中需要的成千上万个电子元件分配到多个叠层中,并确定它们之间的关系,冉画出每一个叠层的三维布图设计。
 
通过上述描述我们可以知道如图设计人员将大量的电子元器件分配在多个叠层巾从而形成个三维的图形配置这一过程是集成电路制作工艺的关键,集成电路在生产过程中,都是依靠布图设计来次性生产的,在期间不容许有半分的错误,比如说连线或者是元器件错误,有分错误,那么集成电路就成为废品,所以,这就要求设计人员在设计的过程当中谨小慎微,对每一个细节都周密考虑,不容许半分懈怠,集成电路布图是如此的重要,中国有句古话,种瓜得瓜,种豆得豆,布图计无疑相当于集成电路产品的“种子”,集成电路的质量优劣取决于布图设计水平的高低,布图设计是集高智力、高技术、和高资金于一体的智力成果。
 

布图设计具有无形性
 
通过上述的描述可以得知,布图设计是一种电子元件之间的三维配置,而这种三维配置其实是反映在人脑中的一种信息,是抽象的,也是无形的,但是如果这种抽象、无形的信息实现在某种载体上时,它就有了表达方式,即客观的、有具体形状的,比如,布图设计可以通过图形的方式体现在掩膜板上,也可以以编码的方式存在于存储设备当中。
 
布图设计具有可复制性
 
布图设计存在于不同的载体导致了复制方式的多样性,比如,如果布图设计以图形的方式存在于掩膜板上时,可以采用照相机对掩膜板进行拍照。如果布图设计以编码的方式存在于u盘等存储设备时,以拷贝的方法则可以完成复制。而如果布图设计已经固定在集成电路产品(芯片)当巾,可以将芯片泡在药水中进行腐蚀,使其露出层层图形,再用照相机对其进行分层拍照,以完成布图设计的复制。

综合如上,企业需要积极加强集成电路布图设计的保护工作。

 
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